Internal photoemission study on charge trapping behavior in rapid thermal oxides on strained-Si/SiGe heterolayers: Fid-Bau Portal

Internal photoemission study on charge trapping behavior in rapid thermal oxides on strained-Si/SiGe heterolayers

Bera, M. K. / Mahata, C. / Bhattacharya, S. / Chakraborty, A. K. / Armstrong, B. M. / Gamble, H. S. / Maiti, C. K.

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Titel:

Internal photoemission study on charge trapping behavior in rapid thermal oxides on strained-Si/SiGe heterolayers

Beteiligte:

Bera, M. K. (Autor:in) / Mahata, C. (Autor:in) / Bhattacharya, S. (Autor:in) / Chakraborty, A. K. (Autor:in) / Armstrong, B. M. (Autor:in) / Gamble, H. S. (Autor:in) / Maiti, C. K. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 2971-2977

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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