Modelling of Boron Trapping at End-of-Range defects in pre-amorphized ultra-shallow junctions: Fid-Bau Portal

Modelling of Boron Trapping at End-of-Range defects in pre-amorphized ultra-shallow junctions

Bazizi, E. M. / Fazzini, P. F. / Zechner, C. / Tsibizov, A. / Kheyrandish, H. / Pakfar, A. / Ciampolini, L. / Tavernier, C. / Cristiano, F.

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Bazizi, E. M. / Fazzini, P. F. / Zechner, C. / Tsibizov, A. / Kheyrandish, H. / Pakfar, A. / Ciampolini, L. / Tavernier, C. / Cristiano, F.

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Titel:

Modelling of Boron Trapping at End-of-Range defects in pre-amorphized ultra-shallow junctions

Beteiligte:

Bazizi, E. M. (Autor:in) / Fazzini, P. F. (Autor:in) / Zechner, C. (Autor:in) / Tsibizov, A. (Autor:in) / Kheyrandish, H. (Autor:in) / Pakfar, A. (Autor:in) / Ciampolini, L. (Autor:in) / Tavernier, C. (Autor:in) / Cristiano, F. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B ADVANCED FUNCTIONAL SOLID STATE MATERIALS ; 154-155 ; 275-278

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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