High deposition rate processes for the fabrication of microcrystalline silicon thin films: Fid-Bau Portal

High deposition rate processes for the fabrication of microcrystalline silicon thin films

Michard, S. / Meier, M. / Grootoonk, B. / Astakhov, O. / Gordijn, A. / Finger, F.

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Titel:

High deposition rate processes for the fabrication of microcrystalline silicon thin films

Beteiligte:

Michard, S. (Autor:in) / Meier, M. (Autor:in) / Grootoonk, B. (Autor:in) / Astakhov, O. (Autor:in) / Gordijn, A. (Autor:in) / Finger, F. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B ADVANCED FUNCTIONAL SOLID STATE MATERIALS ; 178 ; 691-694

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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