Controlled growth and properties of p-type cuprous oxide films by plasma-enhanced atomic layer deposition at low temperature: Fid-Bau Portal

Controlled growth and properties of p-type cuprous oxide films by plasma-enhanced atomic layer deposition at low temperature

Kwon, J. D. / Kwon, S. H. / Jung, T. H. / Nam, K. S. / Chung, K. B. / Kim, D. H. / Park, J. S.

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Titel:

Controlled growth and properties of p-type cuprous oxide films by plasma-enhanced atomic layer deposition at low temperature

Beteiligte:

Kwon, J. D. (Autor:in) / Kwon, S. H. (Autor:in) / Jung, T. H. (Autor:in) / Nam, K. S. (Autor:in) / Chung, K. B. (Autor:in) / Kim, D. H. (Autor:in) / Park, J. S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 285 ; 373-379

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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