Study of the La-related dipole in TiN/LaOx/HfSiON/SiON/Si gate stacks using hard X-ray photoelectron spectroscopy and backside medium energy ion scattering: Fid-Bau Portal

Study of the La-related dipole in TiN/LaOx/HfSiON/SiON/Si gate stacks using hard X-ray photoelectron spectroscopy and backside medium energy ion scattering

Boujamaa, R. / Martinez, E. / Pierre, F. / Renault, O. / Detlefs, B. / Zegenhagen, J. / Baudot, S. / Gros-Jean, M. / Bertin, F. / Dubourdieu, C.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Study of the La-related dipole in TiN/LaOx/HfSiON/SiON/Si gate stacks using hard X-ray photoelectron spectroscopy and backside medium energy ion scattering

Boujamaa, R. / Martinez, E. / Pierre, F. / Renault, O. / Detlefs, B. / Zegenhagen, J. / Baudot, S. / Gros-Jean, M. / Bertin, F. / Dubourdieu, C.

Study of the La-related dipole in TiN/LaOx/HfSiON/SiON/Si gate stacks using hard X-ray photoelectron spectroscopy and backside medium energy ion scattering

Boujamaa, R. / Martinez, E. / Pierre, F. / Renault, O. / Detlefs, B. / Zegenhagen, J. / Baudot, S. / Gros-Jean, M. / Bertin, F. / Dubourdieu, C.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Study of the La-related dipole in TiN/LaOx/HfSiON/SiON/Si gate stacks using hard X-ray photoelectron spectroscopy and backside medium energy ion scattering

Beteiligte:

Boujamaa, R. (Autor:in) / Martinez, E. (Autor:in) / Pierre, F. (Autor:in) / Renault, O. (Autor:in) / Detlefs, B. (Autor:in) / Zegenhagen, J. (Autor:in) / Baudot, S. (Autor:in) / Gros-Jean, M. (Autor:in) / Bertin, F. (Autor:in) / Dubourdieu, C. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 335 ; 71-77

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

Rubio-Zuazo, J. / Martinez, E. / Batude, P. et al. | British Library Online Contents | 2011

Study on changes in the structure of HfSiO and HfSiON dielectrics with different annealing temperature by photoelectron spectroscopy

Yang, X. M. / Yu, T. / Wu, X. M. et al. | British Library Online Contents | 2011

Depth profiles of boron and nitrogen in SiON films by backside SIMS

Sameshima, J. / Maeda, R. / Yamada, K. et al. | British Library Online Contents | 2004

Quantification of nitrogen profiles in HfSiON films for gate dielectrics

Yamamoto, T. / Miyamoto, T. / Karen, A. | British Library Online Contents | 2004

Luminescence properties of LaOX (X = F, Cl, Br)Eu phosphors

Park, J. K. / Lim, M. A. / Kim, C. H. et al. | British Library Online Contents | 2003

Nach oben