Thermal stability, structural and electrical characteristics of the modulated HfO2/Al2O3 films fabricated by atomic layer deposition: Fid-Bau Portal

Thermal stability, structural and electrical characteristics of the modulated HfO2/Al2O3 films fabricated by atomic layer deposition

Nie, X. / Ma, D. / Ma, F. / Xu, K.

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Titel:

Thermal stability, structural and electrical characteristics of the modulated HfO2/Al2O3 films fabricated by atomic layer deposition

Beteiligte:

Nie, X. (Autor:in) / Ma, D. (Autor:in) / Ma, F. (Autor:in) / Xu, K. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 52 ; 11524-11536

Erscheinungsdatum:

01.01.2017

Format / Umfang:

13 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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