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    Titel:

    Deposition temperature dependent optical and electrical properties of ALD HfO2 gate dielectrics pretreated with tetrakisethylmethylamino hafnium

    Beteiligte:

    Gao, J. (Autor:in) / He, G. (Autor:in) / Zhang, J.W. (Autor:in) / Liu, Y.M. (Autor:in) / Sun, Z.Q. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Materials research bulletin ; 70 ; 840-846

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2015

    Format / Umfang:

    7 pages

    ISSN:

    0025-5408

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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