Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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HOLLOW CYLINDRICAL CERAMIC TARGET MATERIAL, AND HOLLOW CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
The hollow cylindrical ceramic target material according to the present embodiment has a surface roughness Ra of 1.2 μm or less on the inner-peripheral surface.
Selon un mode de réalisation, l'invention concerne un matériau cible céramique cylindrique creux présentant une rugosité de surface Ra de 1,2 µm ou moins sur la surface périphérique interne.
実施形態に係るセラミックス円筒形ターゲット材は、内周面の表面粗さＲａが１．２μｍ以下である。
HOLLOW CYLINDRICAL CERAMIC TARGET MATERIAL, AND HOLLOW CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
The hollow cylindrical ceramic target material according to the present embodiment has a surface roughness Ra of 1.2 μm or less on the inner-peripheral surface.
Selon un mode de réalisation, l'invention concerne un matériau cible céramique cylindrique creux présentant une rugosité de surface Ra de 1,2 µm ou moins sur la surface périphérique interne.
実施形態に係るセラミックス円筒形ターゲット材は、内周面の表面粗さＲａが１．２μｍ以下である。
HOLLOW CYLINDRICAL CERAMIC TARGET MATERIAL, AND HOLLOW CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
MATÉRIAU CIBLE CÉRAMIQUE CYLINDRIQUE CREUX, ET CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE CYLINDRIQUE CREUX
セラミックス円筒形ターゲット材および円筒形スパッタリングターゲット
ISHIDA SHINTARO (Autor:in)
09.09.2016
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
HOLLOW CYLINDRICAL CERAMIC TARGET MATERIAL AND HOLLOW CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
| Europäisches Patentamt | 2017
| Europäisches Patentamt | 2016