Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET
An oxide sintered body which has a surface having surface roughness Rz of less than 2.0 μm.
La présente invention concerne un corps fritté à base d'oxyde qui a une surface ayant une rugosité de surface Rz inférieure à 2,0 µm.
酸化物焼結体であって、前記酸化物焼結体の表面の表面粗さＲｚが、２.０μｍ未満である、酸化物焼結体。
OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET
An oxide sintered body which has a surface having surface roughness Rz of less than 2.0 μm.
La présente invention concerne un corps fritté à base d'oxyde qui a une surface ayant une rugosité de surface Rz inférieure à 2,0 µm.
酸化物焼結体であって、前記酸化物焼結体の表面の表面粗さＲｚが、２.０μｍ未満である、酸化物焼結体。
OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET
CORPS FRITTÉ À BASE D'OXYDE, CIBLE DE PULVÉRISATION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE CIBLE
酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法
KAIJO AKIRA (Autor:in)
27.08.2020
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
Oxide sintered body, sputtering target, and method for producing sputtering target
| Europäisches Patentamt | 2021
OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET
| Europäisches Patentamt | 2020
OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET
| Europäisches Patentamt | 2021