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TRANSPARENT ELECTRODE FILM, AND SPUTTERING TARGET FOR FORMING SAME TRANSPARENT ELECTRODE FILM
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a target capable of suppressing decline of productivity or decline of quality resulting from nodule generation by producing efficiently a sintered compact target having a high density and little nodule generation, and capable of ignoring pollution (contamination) from a pulverization media, in a sputtering process for forming a transparent electrode film.SOLUTION: There is provided a sputtering target in which 0.1-5 wt.% zirconium oxide is contained in indium oxide, the whole amount of zirconium oxide is solid-dissolved in indium oxide, and a sintered density of a sintered compact target is 98% or less.
【課題】透明電極膜を形成するスパッタリングプロセスにおいて、高密度でノジュール発生が少ない焼結体ターゲットを効率的に製造し、これによってノジュールの発生に伴う生産性の低下や品質の低下を抑制し、さらに粉砕メディアからの汚染（コンタミ）を無視できるターゲットの提供。【解決手段】酸化インジウム中に酸化ジルコニウム０．１〜５重量％含有し、該酸化インジウム中に酸化ジルコニウムが全量固溶しており、焼結体ターゲットの焼結密度が９８％以下であるスパッタリングターゲット。【選択図】図１
TRANSPARENT ELECTRODE FILM, AND SPUTTERING TARGET FOR FORMING SAME TRANSPARENT ELECTRODE FILM
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a target capable of suppressing decline of productivity or decline of quality resulting from nodule generation by producing efficiently a sintered compact target having a high density and little nodule generation, and capable of ignoring pollution (contamination) from a pulverization media, in a sputtering process for forming a transparent electrode film.SOLUTION: There is provided a sputtering target in which 0.1-5 wt.% zirconium oxide is contained in indium oxide, the whole amount of zirconium oxide is solid-dissolved in indium oxide, and a sintered density of a sintered compact target is 98% or less.
【課題】透明電極膜を形成するスパッタリングプロセスにおいて、高密度でノジュール発生が少ない焼結体ターゲットを効率的に製造し、これによってノジュールの発生に伴う生産性の低下や品質の低下を抑制し、さらに粉砕メディアからの汚染（コンタミ）を無視できるターゲットの提供。【解決手段】酸化インジウム中に酸化ジルコニウム０．１〜５重量％含有し、該酸化インジウム中に酸化ジルコニウムが全量固溶しており、焼結体ターゲットの焼結密度が９８％以下であるスパッタリングターゲット。【選択図】図１
TRANSPARENT ELECTRODE FILM, AND SPUTTERING TARGET FOR FORMING SAME TRANSPARENT ELECTRODE FILM
透明電極膜及び同電極膜を形成するためのスパッタリングターゲット
YAHAGI MASATAKA (author) / YANAGII YOSHIRO (author) / NAKAMURA ATSUSHI (author)
2015-07-16
Patent
Electronic Resource
Japanese
Sputtering target, transparent conductive film and transparent electrode
| European Patent Office | 2015
SPUTTERING TARGET FOR FORMING TRANSPARENT OXIDE FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME
European Patent Office | 2019