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MAGNESIUM OXIDE SPUTTERING TARGET
To provide a sputtering target composed of magnesium oxide, the sputtering target generating less amount of particles in sputtering.SOLUTION: A magnesium oxide sputtering target composed of a sintered body of magnesium oxide, the sputtering target having an orientation rate of a (200) sputtered plane of 0.5 or more and an average crystal grain size of 30 μm or more.SELECTED DRAWING: None
【課題】酸化マグネシウムからなるスパッタリングターゲットであって、スパッタリング時にパーティクルの発生が少ないターゲットを提供することを課題とする。【解決手段】酸化マグネシウム焼結体からなるスパッタリングターゲットであって、スパッタ面の（２００）面の配向率が０．５以上であり、平均結晶粒径が３０μｍ以上であることを特徴とする酸化マグネシウムスパッタリングターゲット。【選択図】なし
MAGNESIUM OXIDE SPUTTERING TARGET
To provide a sputtering target composed of magnesium oxide, the sputtering target generating less amount of particles in sputtering.SOLUTION: A magnesium oxide sputtering target composed of a sintered body of magnesium oxide, the sputtering target having an orientation rate of a (200) sputtered plane of 0.5 or more and an average crystal grain size of 30 μm or more.SELECTED DRAWING: None
【課題】酸化マグネシウムからなるスパッタリングターゲットであって、スパッタリング時にパーティクルの発生が少ないターゲットを提供することを課題とする。【解決手段】酸化マグネシウム焼結体からなるスパッタリングターゲットであって、スパッタ面の（２００）面の配向率が０．５以上であり、平均結晶粒径が３０μｍ以上であることを特徴とする酸化マグネシウムスパッタリングターゲット。【選択図】なし
MAGNESIUM OXIDE SPUTTERING TARGET
酸化マグネシウムスパッタリングターゲット
KAJITA HIROKI (author) / SHIBUYA YOSHITAKA (author) / NARITA SATOYASU (author)
2020-04-16
Patent
Electronic Resource
Japanese
MAGNESIUM OXIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MAKING SAME
| European Patent Office | 2018
MAGNESIUM OXIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MAKING SAME
| European Patent Office | 2020