A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
MAGNESIUM OXIDE SPUTTERING TARGET
산화마그네슘 소결체를 포함하는 스퍼터링 타깃이며, 상기 산화마그네슘 소결체의 하나의 결정립 내에 핀 홀의 수가 20개 이상 존재하는 결정립의 비율이 50％ 이하인 것을 특징으로 하는 스퍼터링 타깃. 본 발명은, 산화마그네슘 소결체를 포함하는 스퍼터링 타깃이며, 스퍼터링 시에 파티클의 발생이 적은 스퍼터링 타깃을 제공하는 것을 과제로 한다.
A sputtering target configured from a magnesium oxide sintered body, wherein a ratio of crystal grains of the magnesium oxide sintered body in which a number of pinholes in a single crystal grain is 20 or more is 50% or less. The present invention is a sputtering target configured from a magnesium oxide sintered body in which the generation of particles during sputtering is less.
MAGNESIUM OXIDE SPUTTERING TARGET
산화마그네슘 소결체를 포함하는 스퍼터링 타깃이며, 상기 산화마그네슘 소결체의 하나의 결정립 내에 핀 홀의 수가 20개 이상 존재하는 결정립의 비율이 50％ 이하인 것을 특징으로 하는 스퍼터링 타깃. 본 발명은, 산화마그네슘 소결체를 포함하는 스퍼터링 타깃이며, 스퍼터링 시에 파티클의 발생이 적은 스퍼터링 타깃을 제공하는 것을 과제로 한다.
A sputtering target configured from a magnesium oxide sintered body, wherein a ratio of crystal grains of the magnesium oxide sintered body in which a number of pinholes in a single crystal grain is 20 or more is 50% or less. The present invention is a sputtering target configured from a magnesium oxide sintered body in which the generation of particles during sputtering is less.
MAGNESIUM OXIDE SPUTTERING TARGET
산화마그네슘 스퍼터링 타깃
KAJITA HIROKI (author) / SHIBUYA YOSHITAKA (author) / NARITA SATOYASU (author)
2024-06-21
Patent
Electronic Resource
Korean
MAGNESIUM OXIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MAKING SAME
| European Patent Office | 2018
MAGNESIUM OXIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MAKING SAME
| European Patent Office | 2020