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MAGNESIUM OXIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MAKING SAME
A sintered compact magnesium oxide target for sputtering having a purity of 99.99 wt% or higher, a density of 3.58 g/cm3 or higher, and a transparency 10% or more. A sintered compact magnesium oxide target for sputtering having a purity of 99.99wt% or higher, a density of 3.58 g/cm3 or higher, and an average crystal grain size of 50 μm or more.
Cette invention concerne une cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium compacte frittée ayant une pureté de 99,99 % en poids ou plus, une densité de 3,58 g/cm3 ou plus, et une transparence de 10 % ou plus. L'invention concerne en outre une cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium compacte frittée ayant une pureté de 99,99 % en poids ou plus, une densité de 3,58 g/cm3 et une taille moyenne du grain cristallin de 50 μm ou plus.
MAGNESIUM OXIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MAKING SAME
A sintered compact magnesium oxide target for sputtering having a purity of 99.99 wt% or higher, a density of 3.58 g/cm3 or higher, and a transparency 10% or more. A sintered compact magnesium oxide target for sputtering having a purity of 99.99wt% or higher, a density of 3.58 g/cm3 or higher, and an average crystal grain size of 50 μm or more.
Cette invention concerne une cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium compacte frittée ayant une pureté de 99,99 % en poids ou plus, une densité de 3,58 g/cm3 ou plus, et une transparence de 10 % ou plus. L'invention concerne en outre une cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium compacte frittée ayant une pureté de 99,99 % en poids ou plus, une densité de 3,58 g/cm3 et une taille moyenne du grain cristallin de 50 μm ou plus.
MAGNESIUM OXIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MAKING SAME
CIBLE DE PULVÉRISATION D'OXYDE DE MAGNÉSIUM ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
IVANOV EUGENE Y (author) / JAWORSKI CHRISTOPHER M (author)
2018-01-18
Patent
Electronic Resource
English
MAGNESIUM OXIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MAKING SAME
European Patent Office | 2020
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