A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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TRANSPARENT OXIDE-LAMINATED FILM, METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT OXIDE-LAMINATED FILM, AND TRANSPARENT RESIN SUBSTRATE
Provided are: a transparent oxide-laminated film having excellent transparency, good moisture barrier performance, and chemical resistance; a method for producing the transparent oxide-laminated film; and a transparent resin substrate using the transparent oxide-laminated film. The transparent oxide-laminated film is obtained by laminating a plurality of layers of a transparent oxide film containing Zn and Sn, wherein each of the layers is composed of an amorphous transparent oxide film having a different atomic ratio of Zn to Sn. The method for producing the transparent oxide-laminated film uses sputtering targets made of different Sn-Zn-O-based oxide sintered bodies, wherein a first target having an oxide sintered body having an atomic ratio Sn/(Zn+Sn) of 0.18-0.29, and a second target having an oxide sintered body having an atomic ratio Sn/(Zn+Sn) of 0.44-0.90 are used to form the transparent oxide laminated-film.
L'invention concerne : un film stratifié d'oxyde transparent ayant une excellente transparence, une bonne performance de barrière à l'humidité et une résistance chimique ; un procédé de production du film stratifié d'oxyde transparent ; et un substrat en résine transparente utilisant le film stratifié d'oxyde transparent. Le film stratifié d'oxyde transparent est obtenu par stratification d'une pluralité de couches d'un film d'oxyde transparent contenant du Zn et Sn, chacune des couches étant composée d'un film d'oxyde transparent amorphe ayant un rapport atomique différent de Zn à Sn. Le procédé de production du film stratifié d'oxyde transparent utilise des cibles de pulvérisation constituées de différents corps frittés d'oxyde à base de Sn-Zn-O, une première cible ayant un corps fritté d'oxyde ayant un rapport atomique Sn/ (Zn + Sn) de 0,18 à 0,29, et une seconde cible ayant un corps fritté d'oxyde ayant un rapport atomique Sn/ (Zn + Sn) de 0,44-0,90 sont utilisées pour former le film stratifié d'oxyde transparent.
優れた透明性、良好な水蒸気バリア性能、そして耐薬品性有する、透明酸化物積層膜とその製造方法、そしてこれを用いた透明樹脂基板を提供する。ＺｎとＳｎとを含有する透明酸化物膜を複数層積層した透明酸化物積層膜であって、各層でＺｎとＳｎの金属原子数比が異なる非晶質の透明酸化物膜から構成される。また、Ｓｎ－Ｚｎ－Ｏ系の酸化物焼結体からなるターゲットを用いてスパッタリングする透明酸化物積層膜の製造方法であって、少なくとも、金属原子数比で、Ｓｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ）が０．１８以上０．２９以下である酸化物焼結体を有する第１のターゲットと、金属原子数比で、Ｓｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ）が０．４４以上０．９０以下である酸化物焼結体を有する第２のターゲットとを用いて透明酸化物積層膜を形成する
TRANSPARENT OXIDE-LAMINATED FILM, METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT OXIDE-LAMINATED FILM, AND TRANSPARENT RESIN SUBSTRATE
Provided are: a transparent oxide-laminated film having excellent transparency, good moisture barrier performance, and chemical resistance; a method for producing the transparent oxide-laminated film; and a transparent resin substrate using the transparent oxide-laminated film. The transparent oxide-laminated film is obtained by laminating a plurality of layers of a transparent oxide film containing Zn and Sn, wherein each of the layers is composed of an amorphous transparent oxide film having a different atomic ratio of Zn to Sn. The method for producing the transparent oxide-laminated film uses sputtering targets made of different Sn-Zn-O-based oxide sintered bodies, wherein a first target having an oxide sintered body having an atomic ratio Sn/(Zn+Sn) of 0.18-0.29, and a second target having an oxide sintered body having an atomic ratio Sn/(Zn+Sn) of 0.44-0.90 are used to form the transparent oxide laminated-film.
L'invention concerne : un film stratifié d'oxyde transparent ayant une excellente transparence, une bonne performance de barrière à l'humidité et une résistance chimique ; un procédé de production du film stratifié d'oxyde transparent ; et un substrat en résine transparente utilisant le film stratifié d'oxyde transparent. Le film stratifié d'oxyde transparent est obtenu par stratification d'une pluralité de couches d'un film d'oxyde transparent contenant du Zn et Sn, chacune des couches étant composée d'un film d'oxyde transparent amorphe ayant un rapport atomique différent de Zn à Sn. Le procédé de production du film stratifié d'oxyde transparent utilise des cibles de pulvérisation constituées de différents corps frittés d'oxyde à base de Sn-Zn-O, une première cible ayant un corps fritté d'oxyde ayant un rapport atomique Sn/ (Zn + Sn) de 0,18 à 0,29, et une seconde cible ayant un corps fritté d'oxyde ayant un rapport atomique Sn/ (Zn + Sn) de 0,44-0,90 sont utilisées pour former le film stratifié d'oxyde transparent.
優れた透明性、良好な水蒸気バリア性能、そして耐薬品性有する、透明酸化物積層膜とその製造方法、そしてこれを用いた透明樹脂基板を提供する。ＺｎとＳｎとを含有する透明酸化物膜を複数層積層した透明酸化物積層膜であって、各層でＺｎとＳｎの金属原子数比が異なる非晶質の透明酸化物膜から構成される。また、Ｓｎ－Ｚｎ－Ｏ系の酸化物焼結体からなるターゲットを用いてスパッタリングする透明酸化物積層膜の製造方法であって、少なくとも、金属原子数比で、Ｓｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ）が０．１８以上０．２９以下である酸化物焼結体を有する第１のターゲットと、金属原子数比で、Ｓｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ）が０．４４以上０．９０以下である酸化物焼結体を有する第２のターゲットとを用いて透明酸化物積層膜を形成する
TRANSPARENT OXIDE-LAMINATED FILM, METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT OXIDE-LAMINATED FILM, AND TRANSPARENT RESIN SUBSTRATE
FILM STRATIFIÉ D'OXYDE TRANSPARENT, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM STRATIFIÉ D'OXYDE TRANSPARENT ET SUBSTRAT EN RÉSINE TRANSPARENTE
透明酸化物積層膜、透明酸化物積層膜の製造方法、及び透明樹脂基板
KUWAHARA MASAKAZU (author) / NITO SHIGEO (author)
2019-09-26
Patent
Electronic Resource
Japanese
IPC:
C23C
Beschichten metallischer Werkstoffe
,
COATING METALLIC MATERIAL
/
B32B
LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
,
Schichtkörper, d.h. aus Ebenen oder gewölbten Schichten, z.B. mit zell- oder wabenförmiger Form, aufgebaute Erzeugnisse
/
C04B
Kalk
,
LIME
| European Patent Office | 2020
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