A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD
[Problem] To provide a sputtering target with which particles and abnormal discharge can be suppressed even if the sputtering target is long and cylindrical. [Solution] A sputtering target, wherein a target body comprises a plurality of target members that are arranged along the outer circumferential surface of a cylindrical backing tube, and that have a circular arc-shaped cross section. The plurality of target members are each disposed so as to be separated from each other around a central axis of the backing tube. A gap that is formed between the target members which are aligned around the central axis extends in the central axis direction of the backing tube. A bonding material is interposed between the backing tube and the target body so as to bond the backing tube and the plurality of target members to each other. A shielding member is provided between the bonding material and the target body so as to shield the gap from the bonding material side.
Le problème décrit par la présente invention est de fournir une cible de pulvérisation cathodique permettant d'éviter les particules et les décharges anormales, même si la cible de pulvérisation est longue et cylindrique. La solution selon l'invention porte sur une cible de pulvérisation, un corps de cible comprenant une pluralité d'éléments cibles qui sont agencés le long de la surface circonférentielle externe d'un tube de support cylindrique, et qui ont une section transversale en forme d'arc circulaire. La pluralité d'éléments cibles sont chacun disposés de manière à être séparés les uns des autres autour d'un axe central du tube de support. Un espace formé entre les éléments cibles alignés autour de l'axe central s'étend dans la direction d'axe central du tube de support. Un matériau de liaison est intercalé entre le tube de support et le corps de cible de façon à lier entre eux le tube de support et la pluralité d'éléments cibles. Un élément de protection est disposé entre le matériau de liaison et le corps cible de façon à protéger l'espace depuis le côté du matériau de liaison.
【課題】長く、円筒型であっても、パーティクル、異常放電が抑制されるスパッタリングターゲットを提供する。 【解決手段】スパッタリングターゲットにおいて、ターゲット本体は、筒状のバッキングチューブの外周面に沿うように並設され円弧状の断面を有する複数のターゲット部材を含む。複数のターゲット部材のそれぞれは、バッキングチューブの中心軸周りに離間するように配置される。中心軸周りに並ぶターゲット部材間に形成される間隙は、バッキングチューブの中心軸方向に延在する。接合材は、バッキングチューブとターゲット本体との間に介設され、バッキングチューブと複数のターゲット部材のそれぞれとを接合する。遮蔽部材は、接合材とターゲット本体との間に設けられ、間隙を接合材の側から遮蔽する。
SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD
[Problem] To provide a sputtering target with which particles and abnormal discharge can be suppressed even if the sputtering target is long and cylindrical. [Solution] A sputtering target, wherein a target body comprises a plurality of target members that are arranged along the outer circumferential surface of a cylindrical backing tube, and that have a circular arc-shaped cross section. The plurality of target members are each disposed so as to be separated from each other around a central axis of the backing tube. A gap that is formed between the target members which are aligned around the central axis extends in the central axis direction of the backing tube. A bonding material is interposed between the backing tube and the target body so as to bond the backing tube and the plurality of target members to each other. A shielding member is provided between the bonding material and the target body so as to shield the gap from the bonding material side.
Le problème décrit par la présente invention est de fournir une cible de pulvérisation cathodique permettant d'éviter les particules et les décharges anormales, même si la cible de pulvérisation est longue et cylindrique. La solution selon l'invention porte sur une cible de pulvérisation, un corps de cible comprenant une pluralité d'éléments cibles qui sont agencés le long de la surface circonférentielle externe d'un tube de support cylindrique, et qui ont une section transversale en forme d'arc circulaire. La pluralité d'éléments cibles sont chacun disposés de manière à être séparés les uns des autres autour d'un axe central du tube de support. Un espace formé entre les éléments cibles alignés autour de l'axe central s'étend dans la direction d'axe central du tube de support. Un matériau de liaison est intercalé entre le tube de support et le corps de cible de façon à lier entre eux le tube de support et la pluralité d'éléments cibles. Un élément de protection est disposé entre le matériau de liaison et le corps cible de façon à protéger l'espace depuis le côté du matériau de liaison.
【課題】長く、円筒型であっても、パーティクル、異常放電が抑制されるスパッタリングターゲットを提供する。 【解決手段】スパッタリングターゲットにおいて、ターゲット本体は、筒状のバッキングチューブの外周面に沿うように並設され円弧状の断面を有する複数のターゲット部材を含む。複数のターゲット部材のそれぞれは、バッキングチューブの中心軸周りに離間するように配置される。中心軸周りに並ぶターゲット部材間に形成される間隙は、バッキングチューブの中心軸方向に延在する。接合材は、バッキングチューブとターゲット本体との間に介設され、バッキングチューブと複数のターゲット部材のそれぞれとを接合する。遮蔽部材は、接合材とターゲット本体との間に設けられ、間隙を接合材の側から遮蔽する。
SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD
CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法
WADA MASARU (author) / SAITOU KATSUHITO (author) / KAWAGOE YUU (author) / TAKESUE KENTAROU (author) / TAKAHASHI KAZUTOSHI (author)
2020-12-17
Patent
Electronic Resource
Japanese
SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD
| European Patent Office | 2020
SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD
| European Patent Office | 2020
SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2020
SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2023
SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2020