Fabrication of ultra-shallow junctions with high electrical activation by excimer laser annealing: Fid-Bau Portal

Fabrication of ultra-shallow junctions with high electrical activation by excimer laser annealing

Fortunato, G. / Mariucci, L. / Stanizzi, M. / Privitera, V. / Spinella, C. / Coffa, S. / Napolitani, E.

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Titel:

Fabrication of ultra-shallow junctions with high electrical activation by excimer laser annealing

Beteiligte:

Fortunato, G. (Autor:in) / Mariucci, L. (Autor:in) / Stanizzi, M. (Autor:in) / Privitera, V. (Autor:in) / Spinella, C. (Autor:in) / Coffa, S. (Autor:in) / Napolitani, E. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 4 ; 417-423

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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