Micro-Raman spectroscopy and X-ray diffraction studies of atomic-layer-deposited ZrO2 and HfO2 thin films: Fid-Bau Portal

Micro-Raman spectroscopy and X-ray diffraction studies of atomic-layer-deposited ZrO2 and HfO2 thin films

Tkachev, S. N. / Manghnani, M. H. / Niilisk, A. / Aarik, J. / Mändar, H.

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Titel:

Micro-Raman spectroscopy and X-ray diffraction studies of atomic-layer-deposited ZrO2 and HfO2 thin films

Beteiligte:

Tkachev, S. N. (Autor:in) / Manghnani, M. H. (Autor:in) / Niilisk, A. (Autor:in) / Aarik, J. (Autor:in) / Mändar, H. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 40 ; 4293-4298

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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