Reduction of Surface Roughness of 4H-SiC by Catalyst-Referred Etching: Fid-Bau Portal

Reduction of Surface Roughness of 4H-SiC by Catalyst-Referred Etching

Okamoto, T. / Sano, Y. / Hara, H. / Hatayama, T. / Arima, K. / Yagi, K. / Murata, J. / Sadakuni, S. / Tachibana, K. / Shirasawa, Y.

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Okamoto, T. / Sano, Y. / Hara, H. / Hatayama, T. / Arima, K. / Yagi, K. / Murata, J. / Sadakuni, S. / Tachibana, K. / Shirasawa, Y.

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Titel:

Reduction of Surface Roughness of 4H-SiC by Catalyst-Referred Etching

Beteiligte:

Okamoto, T. (Autor:in) / Sano, Y. (Autor:in) / Hara, H. (Autor:in) / Hatayama, T. (Autor:in) / Arima, K. (Autor:in) / Yagi, K. (Autor:in) / Murata, J. (Autor:in) / Sadakuni, S. (Autor:in) / Tachibana, K. (Autor:in) / Shirasawa, Y. (Autor:in)

Erschienen in:

Silicon Carbide and Related Materials 2009 ; 775-778

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 645/648

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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